首页> 中国专利> 在C-方向错切小于+/-15度的m-平面基底上的半极性III-氮化物光电子装置

在C-方向错切小于+/-15度的m-平面基底上的半极性III-氮化物光电子装置

摘要

在GaN的错切上生成的光电子装置,其中所述错切包括在GaN的c‑方向且与GaN的m‑平面错切x度的(GaN的)半极性GaN晶体平面,其中‑15

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-10

    授权

    授权

  • 2017-08-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/32 申请日:20110304

    实质审查的生效

  • 2017-08-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/32 申请日:20110304

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    公开

    公开

  • 2017-07-21

    公开

    公开

  • 2017-07-21

    公开

    公开

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