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用于启用轴对称以用于改进的流动传导性和均匀性的在线去耦合等离子体源腔室硬件设计

摘要

本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室,该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵,以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布,从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。

著录项

  • 公开/公告号CN105408984B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201580001473.6

  • 申请日2015-01-08

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人姬利永

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:44:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-10

    授权

    授权

  • 2017-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20150108

    实质审查的生效

  • 2017-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20150108

    实质审查的生效

  • 2016-03-16

    公开

    公开

  • 2016-03-16

    公开

    公开

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