一种高化学计量比的多晶WC薄膜及其低温制备方法

摘要

本发明公开了一种高化学计量比的多晶WC薄膜及其低温制备方法。所述多晶WC薄膜具X射线衍射最强峰为（100）衍射峰，具有六方相结构；WC薄膜中的W:C的原子百分比为49.7:50.3~50.5:49.5，具有高化学计量比；其显微硬度高于23GPa，与基底的附着力高于31N。其低温制备方法采用直流磁控溅射方法，采用高纯W金属靶材和石墨靶材、双靶共溅射方法，Ar‑CH