在芯片设计布局中发现未知问题图案的系统与方法

摘要

本发明揭露了一种系统，其包括在半导体制程的芯片设计布局中用于储存关键特征数据库的关键特征资料库；一统计模型创建器，基于储存在关键特征数据库中的问题电路图案，并且基于与已知问题电路图案相关的实体测量值及仿真数据或设计数据之间的偏差所获得的目标规格创建统计模型。该系统进一步包括一基于统计模型的预测器，其藉由将统计模型应用于大量由随机布局产生器所产生的候选电路图案，或者，基于藉由延伸芯片设计布局的微影制程检测所判定的重要点区域从芯片设计布局中所撷取出来的候选电路图案，或者，藉由利用强烈敏感度设定对已制造芯片设计布局的晶圆进行检测所获得的候选电路图案，来预测并且发现未知问题电路图案。