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一种二维材料正入射菲涅尔光学表征方法

摘要

本发明提供的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,采用传统的光学薄膜基本理论‑传导矩阵方法,引入光学导纳概念,推导无支撑和有基底二维材料在正入射条件下吸收、反射率、透过率的简单计算公式,推导过程简单,有利于二维材料在光电领域的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN108646321B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201810437661.9

  • 发明设计人 王孝东;陈波;

    申请日2018-05-09

  • 分类号

  • 代理机构深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人赵勍毅

  • 地址 130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-15

    授权

    授权

  • 2018-11-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/00 申请日:20180509

    实质审查的生效

  • 2018-11-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/00 申请日:20180509

    实质审查的生效

  • 2018-10-12

    公开

    公开

  • 2018-10-12

    公开

    公开

  • 2018-10-12

    公开

    公开

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