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具有减少反射的表面特征结构的基板支撑件和用于生产该基板支撑件的制造技术

摘要

提供用于减少处理腔室中的热信号噪声的方法和设备,这些方法和设备使用非接触温度感测装置来测量处理腔室中的部件的温度。在某些实施方式中,用来支撑处理腔室中的基板的基座包括第一表面,所述第一表面包括基板支撑表面;和与所述第一表面相对的第二表面,其中所述第二表面的一部分包括用来吸收入射辐射能量的特征结构。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    授权

    授权

  • 2016-08-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/683 申请日:20140709

    实质审查的生效

  • 2016-08-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20140709

    实质审查的生效

  • 2016-03-23

    公开

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  • 2016-03-23

    公开

    公开

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