首页> 中国专利> 一种SOI MOS管剂量率辐射SPICE宏模型建模法

一种SOI MOS管剂量率辐射SPICE宏模型建模法

摘要

本发明涉及一种SOI MOS管剂量率辐射SPICE宏模型建模法;本发明主要针对SOI MOS器件的剂量率辐射效应,利用宏模型技术将器件在各种不同条件下的辐射响应特性耦合到器件非辐射下的原始SPICE模型上,以形成包含了辐射响应的基本器件单元模型,之后通过直接调用此单元模型以及系统仿真的方式来预测整个集成电路的辐射响应特性;利用此方法可以有效地模拟所设计集成电路在特定辐射条件下的功能和性能,为抗辐射SoC设计提供参考依据,减少流片次数,极大地降低成本,加快研发周期,提高效率。

著录项

  • 公开/公告号CN105740564B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610085690.4

  • 发明设计人 梁堃;李顺;解磊;孙鹏;代刚;李沫;

    申请日2016-02-15

  • 分类号

  • 代理机构成都天嘉专利事务所(普通合伙);

  • 代理人蒋斯琪

  • 地址 621900 四川省绵阳市919信箱522分箱

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-08

    授权

    授权

  • 2016-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160215

    实质审查的生效

  • 2016-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160215

    实质审查的生效

  • 2016-07-06

    公开

    公开

  • 2016-07-06

    公开

    公开

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