一种版图设计规则的优化方法及系统

摘要

本发明提供一种版图设计规则的优化方法，针对先进技术节点的研发，通过将初始版图拆分出关键图形，以关键图形作为后续仿真优化的版图，在优化时，通过光源掩模协同优化仿真确定合理的光源和配套掩模版以及优化后的光刻光学模型，而后在该光刻光学模型下对优化的光源和掩模版的可制造性进行仿真，并根据可制造性仿真的热点输出，进行设计规则的优化，通过反复迭代获得优化的设计规则。在该优化过程中，针对关键图形版图进行优化，可行性强且优化效率高，而且是通过设计规则的调整，这样一方面可以减少版图仿真过程中迭代的次数，提高优化效率，另一方面可以获得更为优化的设计规则，简化设计过程并缩短设计周期。