首页> 中国专利> 台面式砷化镓掺硅阻挡杂质带太赫兹探测器及其制作方法

台面式砷化镓掺硅阻挡杂质带太赫兹探测器及其制作方法

摘要

本发明提供了一种台面式砷化镓掺硅阻挡杂质带太赫兹探测器及其制作方法,所述探测器用于探测太赫兹辐射。所述探测器包括高导砷化镓衬底,所述高导砷化镓衬底上包括环形区域和台面结构区域,所述台面结构区域设置在环形区域中间;所述环形区域内设置有环形负电极,台面结构区域的表面设置有圆形正电极。本发明的优点在于:将环形负电极制备在台面下表面,降低了光生载流子被高导砷化镓衬底中缺陷所俘获的几率,增强了光生载流子的收集效率;同时采用环形负电极结构,缩短了光生载流子的传输路径,从而降低光生载流子的复合几率,进一步增强光生载流子的收集效率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-17

    授权

    授权

  • 2017-10-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0224 申请日:20170512

    实质审查的生效

  • 2017-10-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/0224 申请日:20170512

    实质审查的生效

  • 2017-09-22

    公开

    公开

  • 2017-09-22

    公开

    公开

  • 2017-09-22

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号