法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-09-17
授权
授权
2017-10-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0224 申请日:20170512
实质审查的生效
2017-10-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/0224 申请日:20170512
实质审查的生效
2017-09-22
公开
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2017-09-22
公开
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2017-09-22
公开
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机译: 在台面图案化衬底上外延生长的异质结构半导体激光器的制造方法-使用三甲基甲基镓作为源气体,在台面条纹侧面上通过电流阻挡砷化镓层的外延MOCVD生长
机译: 钝化砷化镓半导体器件-使用活性砷化镓台面之间的半绝缘砷化镓沉积物
机译: 钝化砷化镓半导体器件-使用活性砷化镓台面之间的半绝缘砷化镓沉积物