法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-20
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/26 授权公告日:20070829 终止日期:20090820 申请日:20040820
专利权的终止
2007-08-29
授权
授权
2006-03-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-01-04
公开
公开
机译: 通过将中间层旋涂到基板上并使用簇离子束沉积在旋涂层中形成薄膜来制造X射线镜的方法
机译: 用于装卸光盘旋涂盖的装置,包括该装置的用于光盘旋涂的装置,使用用于装卸光盘旋涂盖的装置制造光盘的方法
机译: 用于光学盘旋涂的连接和拆卸盖的装置,包括该光学盘旋涂的用于光学盘旋涂的装置,使用用于ATTAC的装置制造光学盘的方法