首页> 中国专利> 可控膜厚分布的线型或平面型蒸发器

可控膜厚分布的线型或平面型蒸发器

摘要

本发明涉及一种可控膜厚分布的线型或平面型蒸发器,尤其是一种利用具有一定图案的狭缝在位于蒸发器上方的基板上蒸发和沉积源材料的线型或平面型蒸发器,包括:由一个纵向延伸到预定距离的细长筒体形成的以容纳待沉积材料的坩埚;和沿坩埚纵向形成在坩埚顶表面上且其面积小于坩埚截面面积的一个狭缝或独立设置的一个狭缝,由此通过沿垂直于坩埚纵向的方向移动基板进行薄膜沉积。从而,沉积的薄膜具有提高了的膜厚分布均匀性和期望的图案。

著录项

  • 公开/公告号CN100340694C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 延世大学校;

    申请/专利号CN03802577.9

  • 发明设计人 郑光镐;

    申请日2003-01-22

  • 分类号C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波;侯宇

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-12

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/24 变更前: 变更后: 登记生效日:20130522 申请日:20030122

    专利申请权、专利权的转移

  • 2007-10-03

    授权

    授权

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

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