法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-06
授权
授权
2017-02-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160816
实质审查的生效
2017-02-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160816
实质审查的生效
2017-01-11
公开
公开
2017-01-11
公开
公开
机译: 一种具有均匀硅化物阻挡层的集成电路的生产方法,由此生产出集成电路
机译: 针对功耗和速度优化高性能CMOS集成电路设计的方法
机译: 通过遗传优化为功耗和速度优化高性能CMOS集成电路设计的方法