氧传感器用致密障碍层和电解质层双层片体的制备方法

摘要

本发明涉及电化学氧传感器技术领域，尤其涉及氧传感器用致密障碍层和电解质层双层片体的制备方法。其中，在电解质层坯体上采用超声雾化热解喷涂工艺形成致密障碍层坯体，或在致密障碍层坯体上采用超声雾化热解喷涂工艺形成电解质层坯体，然后干燥、烧结、冷却形成致密障碍层和电解质层。该制备方法制备出的电解质层和致密障碍层双层片体中电解质层和致密障碍层的结合强度高，制备速度快，有利于大规模生产。