法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-07-26
授权
授权
2018-02-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/00 申请日:20160104
实质审查的生效
2018-02-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/00 申请日:20160104
实质审查的生效
2016-07-20
公开
公开
2016-07-20
公开
公开
2016-07-20
公开
公开
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机译: 用于气溶胶喷射印刷的焊接掩模组合物
机译: 用于光掩模的薄膜组合物,由该薄膜组合物形成的用于光掩模的薄膜,该薄膜的形成方法,包括该薄膜的掩模版以及包括该掩模版的光刻用曝光装置。
机译: 活性敏感或辐射敏感性树脂组合物,有源光敏或辐射敏感膜,图案形成方法,用于制造用于制造光掩模的活性光敏或辐射敏感树脂组合物的方法,以及用于制造光掩模的方法 用于制造光掩模