首页> 中国专利> 清洁片材、具有清洁功能的传递部件和对基材加工设备清洁的方法

清洁片材、具有清洁功能的传递部件和对基材加工设备清洁的方法

摘要

本发明披露一种用于应远离杂质的基材加工设备的清洁片材,例如用于制备和检查半导体、平板显示器、印刷基板的设备,具有清洁功能的传递部件和清洁方法。本发明提供:一种清洁片材,其包含作为清洁层的多孔层;或一种清洁片材,其包含具有多孔层的片状材料,以及形成在该片状材料一侧上的胶粘剂层。

著录项

  • 公开/公告号CN1326636C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN02829173.5

  • 发明设计人 並河亮;寺田好夫;额贺二郎;

    申请日2002-06-19

  • 分类号B08B1/00(20060101);H01L21/68(20060101);H01L21/304(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人封新琴;巫肖南

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B08B 1/00 授权公告日:20070718 终止日期:20130619 申请日:20020619

    专利权的终止

  • 2007-07-18

    授权

    授权

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-15

    公开

    公开

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