首页> 中国专利> 虚拟金属结构及形成虚拟金属结构的方法

虚拟金属结构及形成虚拟金属结构的方法

摘要

揭示用于在半导体晶圆上的晶粒之间形成虚拟金属结构的方法及其产生的装置。具体实施例可包括形成从半导体晶圆的基材延展至介于多个晶粒区之间的该半导体晶圆的顶端金属互连层的金属互连层,所述金属互连层的各个皆包括多个虚拟垂直互连进接口(VIA)及多条虚拟金属线,该多条虚拟金属线侧向连接各金属互连层内的该多个虚拟VIA,并且第一金属互连层内的多个虚拟VIA垂直连接该第一金属互连层内的多条虚拟金属线至第二金属互连层内的多条虚拟金属线,并且该第二金属互连层低于该第一金属互连层。

著录项

  • 公开/公告号CN105529300B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 格罗方德半导体公司;

    申请/专利号CN201510673273.7

  • 发明设计人 J·K·丘;高山;

    申请日2015-10-16

  • 分类号H01L21/768(20060101);H01L23/528(20060101);

  • 代理机构11314 北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟;王锦阳

  • 地址 英属开曼群岛大开曼岛

  • 入库时间 2022-08-23 10:34:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-18

    授权

    授权

  • 2016-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20151016

    实质审查的生效

  • 2016-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20151016

    实质审查的生效

  • 2016-04-27

    公开

    公开

  • 2016-04-27

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号