首页> 中国专利> 掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板

掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板

摘要

本发明公开了一种掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板,用以减小彩色滤光层的段差,提高彩膜基板的透过率,进而提高显示基板的显示效果。其中,掩模板包括:与每个亚像素单元对应的第一区域,以及位于相邻两个第一区域之间的第二区域,每个第一区域分别设置有一个用于形成位于黑色矩阵层的开口区域内的彩色滤光层图案的第一子区域、和两个用于形成位于黑色矩阵层的非开口区域上的彩色滤光层图案的第二子区域,第一子区域位于两个第二子区域之间,且每个第二子区域:沿远离第一子区域的方向、第二子区域的透过率沿设定长度逐渐减小或增大。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-17

    授权

    授权

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/54 申请日:20150309

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/54 申请日:20150309

    实质审查的生效

  • 2015-05-13

    公开

    公开

  • 2015-05-13

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号