一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法

摘要

本发明提供一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法，所述方法包括：以固定在表面的DNA折纸结构为模板，通过在所述模板上引入人为缺陷，然后对该引入人为缺陷的模板进行选择性金属化，从而构建出一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案。本发明提供的是一种简单快速有效的，利用DNA折纸可精确定位的特点，可得到一系列零维、一维及二维线宽仅为几个纳米的金属纳米图案的方法。本发明中主要使用的DNA折纸具有良好的生物相容性，其他所需化学、生物材料也均无人体毒害性。因此，本发明为实现以“自下而上”的自组装手段构建纳米电路、突破传统光刻技术极限提供了一种新的思路及技术支撑。