一种连续深浮雕非球面微透镜阵列制作方法

摘要

一种连续深浮雕非球面微透镜阵列制作方法，根据要求制作的微透镜阵列的尺寸设计制作二元掩模，对光刻胶进行两次涂胶，进行60℃-75℃低温、50min-90min长时间前烘，并将二元掩模经光学系统投影在经过涂胶和前烘工艺后的光刻胶上，然后采用移动掩模法进行曝光，即在曝光过程中移动掩模，再经过显影、漂洗及由70℃低温连续升温至120℃高温、90min-120min长时间后烘培，得到微透镜阵列。本发明所需的曝光时间极短(几十秒到几百秒)，比激光直写方法所需曝光时间少二至三个数量级，并且不需购置昂贵的设备，节约了制作成本，而且利用该方法制作的连续微透镜阵列，其组成微透镜阵列的透镜单元之间不存在死区，故填充因子接近100%。