首页> 中国专利> 硅单晶生长装置及使用该装置的硅单晶生长方法

硅单晶生长装置及使用该装置的硅单晶生长方法

摘要

本发明的一个示例性的实施方式提供了一种硅单晶生长装置及方法。所述装置包括:室,设置于所述室内和用于接收熔融硅的坩埚,设置于所述坩埚外用于加热所述坩埚的加热器,设置于所述室内的隔热部,以及设置于所述坩埚上方、能上下移动的辅助隔热部,其特征在于,所述辅助隔热部设置成与从所述熔融硅中生长出的单晶的主体部隔开间隔,且对上升速度进行控制,以增大所述单晶主体部内的无缺陷区。所述辅助隔热部可以减小所述主体部内的温度梯度的偏差,从而增大所述主体部内的无缺陷区的分布。

著录项

  • 公开/公告号CN106574392B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱思开矽得荣株式会社;

    申请/专利号CN201580041826.5

  • 发明设计人 金度延;崔日洙;安润河;

    申请日2015-07-10

  • 分类号C30B15/20(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人张佳鑫;沙永生

  • 地址 韩国庆尚北道

  • 入库时间 2022-08-23 10:29:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-29

    授权

    授权

  • 2019-02-26

    著录事项变更 IPC(主分类):C30B 15/20 变更前: 变更后: 申请日:20150710

    著录事项变更

  • 2019-02-26

    著录事项变更 IPC(主分类):C30B 15/20 变更前: 变更后: 申请日:20150710

    著录事项变更

  • 2017-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B15/20 申请日:20150710

    实质审查的生效

  • 2017-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B15/20 申请日:20150710

    实质审查的生效

  • 2017-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 15/20 申请日:20150710

    实质审查的生效

  • 2017-04-19

    公开

    公开

  • 2017-04-19

    公开

    公开

  • 2017-04-19

    公开

    公开

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