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一种突破外观缺陷机台检测极限的方法

摘要

本发明提供了一种突破外观缺陷机台检测极限的方法,包括:第一步骤:对曝光单元进行逻辑分割以建立虚拟曝光单元;第二步骤:将虚拟曝光单元中的芯片区域进行重新分配,以建立新的检测区域;其中,所述新的检测区域处于外观缺陷机台检测极限之内;第三步骤:将所述新的检测区域中的切割道部分去除,以避免因切割道被扫描而出现虚假缺陷信号;第四步骤:利用外观缺陷检测机台针对所述新的检测区域进行外观缺陷检测。

著录项

  • 公开/公告号CN106442562B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201610795422.1

  • 发明设计人 马芳;赵彬;王剑;戴韫青;

    申请日2016-08-31

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:29:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-12

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/95 申请日:20160831

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/95 申请日:20160831

    实质审查的生效

  • 2017-02-22

    公开

    公开

  • 2017-02-22

    公开

    公开

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