一种TiN-Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种TiN‑Ag纳米复合涂层及其制备方法与应用。它是由磁控共溅射沉积得到的复合薄膜，溅射过程中溅射过程中保持一定的基底温度，获得的厚度在0.5um~1um之间。通过实验调节制备过程的基底负偏压，得到的TiN‑Ag纳米复合涂层相比基底硬度提高明显，Ag元素均匀分布在TiN膜中，接触角明显低于没有掺杂Ag的TiN薄膜，亲水性好，并且细胞相容性得到提高，有望用于改善钛合金在生物医学上的应用。本发明所述的方法形成的材料结构稳定，方法可重复，制备条件可控。