公开/公告号CN107093562B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-03-26
原文格式PDF
申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司;
申请/专利号CN201710352591.2
申请日2017-05-18
分类号H01L21/56(20060101);H01L27/12(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/77(20170101);
代理机构11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司;
代理人郭润湘
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 10:29:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-26
授权
授权
2017-09-19
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/56 申请日:20170518
实质审查的生效
2017-09-19
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/56 申请日:20170518
实质审查的生效
2017-08-25
公开
公开
2017-08-25
公开
公开
2017-08-25
公开
公开
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机译: 用于形成有机膜的材料,用于制造半导体器件的基板,形成有机膜的方法,形成图案的方法,以及用于形成有机膜的化合物。
机译: 用于形成用于制造半导体器件方法的有机膜基板的材料,用于形成有机薄膜图案化工艺和形成有机膜的化合物
机译: 有机膜的制造方法,导电性基板的制造方法以及有机膜的制造装置