首页> 中国专利> 阵列电极的电化学约束刻蚀系统

阵列电极的电化学约束刻蚀系统

摘要

基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统,所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。

著录项

  • 公开/公告号CN107385504B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;厦门大学;

    申请/专利号CN201710524891.4

  • 申请日2017-06-30

  • 分类号

  • 代理机构哈尔滨龙科专利代理有限公司;

  • 代理人高媛

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2022-08-23 10:28:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-19

    授权

    授权

  • 2017-12-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25F7/00 申请日:20170630

    实质审查的生效

  • 2017-12-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25F 7/00 申请日:20170630

    实质审查的生效

  • 2017-11-24

    公开

    公开

  • 2017-11-24

    公开

    公开

  • 2017-11-24

    公开

    公开

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