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半导体设备的工艺加工控制方法、系统及半导体设备

摘要

本发明公开了一种半导体设备的工艺加工控制方法、系统及半导体设备。半导体设备的工艺加工控制方法包括以下步骤:在输入输出配置文件中构建控制机械手操作的第一驱动节点和控制晶片校准装置操作的第二驱动节点;在驱动配置文件中构建对应所述第一驱动节点的第一对象和对应所述第二驱动节点的第二对象;所述第一对象和所述第二对象根据接收到的消息分别独立控制所述机械手的操作和晶片校准装置的操作。其实现了机械手和晶片校准装置的并行操作,提高了工艺过程中机械手和晶片校准装置的利用率,有利于生产效率的提高。

著录项

  • 公开/公告号CN105280521B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201410353986.0

  • 发明设计人 兰芳;

    申请日2014-07-23

  • 分类号

  • 代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人李芙蓉

  • 地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

  • 入库时间 2022-08-23 10:27:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-12

    授权

    授权

  • 2017-10-10

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L21/67 变更前: 变更后: 申请日:20140723

    著录事项变更

  • 2017-10-10

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/67 变更前: 变更后: 申请日:20140723

    著录事项变更

  • 2016-02-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20140723

    实质审查的生效

  • 2016-02-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20140723

    实质审查的生效

  • 2016-02-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20140723

    实质审查的生效

  • 2016-01-27

    公开

    公开

  • 2016-01-27

    公开

    公开

  • 2016-01-27

    公开

    公开

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