次世代半導体洗浄技術：機能性洗浄水製造装置「KHOW SYSTEM」－栗田工業の水素水製造装置とオゾン水製造装置の製品紹介

摘要

半導体用シリコンウェハ、液晶·PDP等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造工程では基板の洗浄が頻繁に行われている。 近年、洗浄工程に対して「より清浄に」、「より短時間で」という要求が強まっている。 これらの要望に、コスト削減·環境保全も満足しながら応えられる技術として、水素水とオゾン水を使った洗浄に注目が集まっている。水素水は、超音波を併用した場合に、基板表面に付着した微粒子除去に非常に高い効果を発揮する。 オゾン水は、その高い酸化力によって基板表面の有機物除去に優れた効果を発揮する。 以下、当社の製品である「水素水製造装置」と「オゾン水製造装置」の特徴について紹介する。