首页> 中国专利> 玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模

摘要

本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理,能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。

著录项

  • 公开/公告号CN104620176B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大日本印刷株式会社;

    申请/专利号CN201380047359.8

  • 申请日2013-09-19

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人葛凡

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:27:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-26

    授权

    授权

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/68 申请日:20130919

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/68 申请日:20130919

    实质审查的生效

  • 2015-05-13

    公开

    公开

  • 2015-05-13

    公开

    公开

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