公开/公告号CN104620176B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 大日本印刷株式会社;
申请/专利号CN201380047359.8
申请日2013-09-19
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人葛凡
地址 日本国东京都
入库时间 2022-08-23 10:27:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-26
授权
授权
2015-06-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/68 申请日:20130919
实质审查的生效
2015-06-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/68 申请日:20130919
实质审查的生效
2015-05-13
公开
公开
2015-05-13
公开
公开
机译: 玻璃再生处理方法,回收的玻璃基板以及使用其的光掩模坯料和光掩模
机译: 用于掩模坯料的玻璃基板,掩模坯料,光掩模以及用于掩模坯料的玻璃基板的制造方法
机译: 用于掩模坯料的玻璃基板,掩模坯料,光掩模以及用于掩模坯料的玻璃基板的制造方法