首页> 中国专利> 电介质基材表面的金属化方法以及附有金属膜的电介质基材

电介质基材表面的金属化方法以及附有金属膜的电介质基材

摘要

本发明的电介质基材表面的金属化方法,对电介质基材表面进行使用稀有气体的大气压等离子体处理,生成过氧化物自由基,使接枝剂与其反应,将与银离子以配位键相结合的官能团固定,涂布含有式(1)的银化合物(A)10~50质量%和式(2)的胺化合物(B)50~90质量%的含银组合物,进行加热、固化形成银薄膜层,通过这样的方法,在虽然没有信号传播速度的延迟或消耗电量的增加而适宜作为电介质基材但密合性极低的氟树脂的表面,也能够形成具有高密合性的金属膜。(R

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-05

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C18/08 申请日:20150224

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 18/08 申请日:20150224

    实质审查的生效

  • 2017-02-22

    公开

    公开

  • 2017-02-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号