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集成电路的布图设计装置、布图设计方法及布图设计程序

摘要

在现有的布图设计方法中,为了生成元件单元而必须输入坐标数据,作业繁杂。本发明通过执行包含以下步骤来解决上述课题:取得规定电容元件的最大电容值CMAX和微调电容值C的参数的步骤(S10)及(S12),根据规定最大电容值CMAX的参数来确定电容元件的基本结构,根据规定微调电容值C的参数来变更基本结构的电极的有效面积,进行电容元件布图的步骤(S14)。

著录项

  • 公开/公告号CN1316595C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三洋电机株式会社;

    申请/专利号CN200310116415.7

  • 发明设计人 岛村哲夫;鹿仓康弘;

    申请日2003-11-18

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-05-16

    授权

    授权

  • 2004-10-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-08-18

    公开

    公开

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