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一种基于多晶铜箔的毫米级单层单晶石墨烯的制备方法

摘要

一种基于多晶铜箔的毫米级单层单晶石墨烯的制备方法,属于薄膜石墨烯材料的制备技术领域。本发明在氩气、氢气和氧气气氛下,对铜箔进行加热,利用甲烷在铜箔表面的催化裂解,在矩形盒子的内壁上生长形成大尺寸的单层单晶石墨烯。本发明无需对铜箔进行复杂的预处理,仅用无水乙醇对铜箔表面进行简单清洁即可,且不会引入新的杂质。本发明无需对铜箔进行预氧化处理,在石墨烯的制备过程中,通过控制氧气的流量和控制CVD反应腔体内的压强,即可实现石墨烯的单晶生长。在利用最优化氧气流量参数下,通过控制甲烷的持续时间来控制单晶石墨烯的生长时间,从而调控单晶石墨烯的尺寸。

著录项

  • 公开/公告号CN108423659B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 绍兴文理学院;

    申请/专利号CN201810537737.5

  • 发明设计人 窦卫东;曹巧君;施碧云;裘剑锋;

    申请日2018-05-30

  • 分类号C01B32/186(20170101);

  • 代理机构33233 浙江永鼎律师事务所;

  • 代理人陆永强

  • 地址 312000 浙江省绍兴市城南大道900号数理信息学院

  • 入库时间 2022-08-23 10:26:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-26

    授权

    授权

  • 2018-09-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 32/186 申请日:20180530

    实质审查的生效

  • 2018-09-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 32/186 申请日:20180530

    实质审查的生效

  • 2018-08-21

    公开

    公开

  • 2018-08-21

    公开

    公开

  • 2018-08-21

    公开

    公开

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