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聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法

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本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A

著录项

公开/公告号CN105646850B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-12-28

原文格式PDF
申请/专利权人三星SDI株式会社;
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申请/专利号CN201510794412.1
发明设计人文秀贤;权孝英;金昇炫;南宫烂;豆米尼阿·拉特维;郑铉日;许柳美;
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申请日2015-11-18
分类号
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人陶敏
地址韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号
入库时间 2022-08-23 10:22:55

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-12-28

授权

授权
2016-07-06

实质审查的生效 IPC(主分类):C08G61/12 申请日:20151118

实质审查的生效
2016-07-06

实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 61/12 申请日:20151118

实质审查的生效
2016-06-08

公开

公开
2016-06-08

公开

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1. 聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法 [P] . 中国专利： CN106188504A . 2016-12-07
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机译：包含噻唑环的组合物，包含该组合物的有机半导体聚合物，包含该有机半导体聚合物的有机活性层，包含该有机活性层的有机薄膜晶体管，包含该有机薄膜晶体管的电子器件及其制备方法
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机译：包含噻唑环的组合物，包含该组合物的有机半导体聚合物，包含有机半导体聚合物的有机活性层，包含有机活性层的有机薄膜晶体管，包含有机薄膜晶体管的电子器件及其制备方法