法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-25
授权
授权
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/06 申请日:20160812
实质审查的生效
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20160812
实质审查的生效
2016-11-09
公开
公开
2016-11-09
公开
公开
机译: 光学记录介质,相同厚度的薄膜厚度测量方法,薄膜厚度控制方法,制造方法,薄膜厚度测量装置和薄膜厚度控制器
机译: 利用等离子体增强原子层沉积法通过辅助结构控制技术为紫外发光器件形成多组分薄膜的方法,以及使用相同的,能够容易地控制厚度的量子阱的方法InxAlyGazN薄膜
机译: 用于确定薄膜制造装置中的致动器与厚度传感器之间的对应关系的偏移的方法,薄膜厚度控制方法以及装置和程序