首页> 中国专利> 一种激光熔覆与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法

一种激光熔覆与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法

摘要

本发明公开了一种激光熔覆与化学脱合金复合制备微纳米结构块体硅材料的方法,其特征是:采用激光熔覆技术在基体上制备铝硅合熔覆层,然后将熔覆层从基体上分离得到前驱体合金材料,最后采用腐蚀剂对熔覆处理得到的前驱体合金材料进行化学脱合金处理,去掉元素铝,最终获得微纳米结构块体硅材料。本发明操作简单,制备周期短,效率高,制备出的微纳米结构块体硅材料的可用于太阳能电池、锂离子电池、生物学等诸多领域。

著录项

  • 公开/公告号CN105967740B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201610285747.5

  • 发明设计人 黄婷;孙丁月;肖荣诗;杨武雄;

    申请日2016-05-02

  • 分类号

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘萍

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2022-08-23 10:22:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-18

    授权

    授权

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B38/04 申请日:20160502

    实质审查的生效

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 38/04 申请日:20160502

    实质审查的生效

  • 2016-09-28

    公开

    公开

  • 2016-09-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号