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用于监测辐射源的装置、辐射源、监测辐射源的方法、器件制造方法

摘要

用于监测用于光刻设备的辐射源中的蒸气或来自蒸气的沉积物的电容性测量。测量可以用于控制辐射源的操作。在一个特定布置中,来自多个电容器的测量用于在由蒸气引起的电容上的改变与由来自蒸气的沉积物引起的电容上的改变之间进行区分。

著录项

  • 公开/公告号CN107077073B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201580048811.1

  • 发明设计人 E·W·伯加特;赵创新;

    申请日2015-08-11

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    授权

    授权

  • 2017-10-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150811

    实质审查的生效

  • 2017-10-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150811

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

  • 2017-08-18

    公开

    公开

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