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用于图案化结构中的光学测量的方法和系统

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摘要

一种用于确定位于下部分层结构的顶部上的图案化结构的一个或多个参数的数据分析方法和系统。根据本技术，提供包括第一测量数据PMD和第二测量数据S

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1. 用于图案化结构中的光学测量的方法和系统 [P] . 中国专利： CN107110638A . 2017-08-29
2. 用于光学测量具有通孔的图案化结构的方法 [P] . 中国专利： CN103429985B . 2016-10-19
3. Optical system and method for measuring parameters of a patterned structure in a microelectronic device [P] . 韩国专利： KR20190088481A . 2019-07-26

机译：用于测量微电子器件中的图案化结构的参数的光学系统和方法
4. Optical system and method for measuring parameters of patterned structures in microelectronic devices [P] . IL266774D0 . 2019-07-31

机译：用于测量微电子器件中的图案化结构的参数的光学系统和方法
5. OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING PARAMETERS OF PATTERNED STRUCTURES IN MICRO-ELECTRONIC DEVICES [P] . 美国专利： US2019339068A1 . 2019-11-07

机译：用于测量微电子设备中已图案化结构的参数的光学系统和方法