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镁合金无氰镀铜化学镀镍与电镀工艺

摘要

本发明公开了一种镁合金无氰预镀铜化学镀镍与电镀工艺,无氰预镀铜打底的镀液配方:焦磷酸铜20-80g·dm-3;焦磷酸钠或焦磷酸钾60-320g·dm-3或柠檬酸三钠60-250g·dm-3,酒石酸钾钠5-20g·dm-3,HEDP 60-250g·dm-3,乙二胺60-250g·dm-3中的一种或几种的复合物;二氟化氢铵5-20g·dm-3或氟化钠5-20g·dm-3或氟化钾5-20g·dm-3或氟化锂5-20g·dm-3中的一种或几种的复合物。化学镀镍的镀液采用硫酸镍或碱式碳酸镍或醋酸镍为主盐,另加适量还原剂、配合剂、缓蚀剂、稳定剂。电镀采用酸性镀铜-镀三镍-电镀铬工艺。本发明对环境污染少,基材与镀层间的结合力高,镀层耐蚀性高,镀件表面平整美观,生产成本低。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-03-07

    授权

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  • 2005-05-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-23

    公开

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