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具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法

摘要

本发明提供一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法。该清洗组件包括第一喷淋机构和第二喷淋机构,第一喷淋机构用于喷淋蚀刻液,第二喷淋机构设置于第一喷淋机构的上方,第二喷淋机构用于在第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液,以对第一喷淋机构进行清洗。基于此,本发明能够对蚀刻腔室内进行随时清洗,减少蚀刻液挥发产生的结晶体,降低由结晶体导致的危害。

著录项

  • 公开/公告号CN106971933B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201710209730.6

  • 发明设计人 蔡小龙;

    申请日2017-03-31

  • 分类号H01J37/32(20060101);B08B3/02(20060101);

  • 代理机构44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人钟子敏

  • 地址 518006 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:20:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-19

    授权

    授权

  • 2017-08-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20170331

    实质审查的生效

  • 2017-08-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170331

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    公开

    公开

  • 2017-07-21

    公开

    公开

  • 2017-07-21

    公开

    公开

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