法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-05-04
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/039 授权公告日:20070411 终止日期:20100225 申请日:20020225
专利权的终止
2007-04-11
授权
授权
2004-07-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-05-19
公开
公开
机译: 辐射敏感树脂组合物,形成抗蚀图案和光致抗蚀膜的方法
机译: 低光学密度的聚合物和共聚物的生产工艺,用作光致抗蚀材料
机译: 低光学密度的聚合物和共聚物的生产工艺,用作光致抗蚀材料