首页> 中国专利> 一种窄垂直方向远场发散角的激光器及其制备方法

一种窄垂直方向远场发散角的激光器及其制备方法

摘要

本发明提供一种该激光器的外延结构包括InP衬底,在InP衬底上由下向上依次沉积有缓冲层、N型外限制层、N型内限制层、非掺杂的折射率渐变的波导层、量子阱有源区、非掺杂的折射率渐变的波导层、P型内限制层、P型外限制层、腐蚀阻挡层、P型包层、P型势垒渐变层、P型势垒激变层、P形欧姆接触层,量子阱有源区量子阱对数不小于6对;量子阱为应变的量子阱结构,阱为压应变,垒为张应变;量子阱结构垒的厚度不小于10nm;N型内限制层为张应变结构层,N型内限制层采用AlInAs材料。该激光器可降低半导体激光器的垂直方向的远场发散角,提高激光器与光纤的耦合效率。

著录项

  • 公开/公告号CN106532433B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州全磊光电有限公司;

    申请/专利号CN201611256586.3

  • 发明设计人 单智发;

    申请日2016-12-30

  • 分类号H01S5/20(20060101);H01S5/22(20060101);H01S5/343(20060101);

  • 代理机构32251 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘计成

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区若水路388号E1107室

  • 入库时间 2022-08-23 10:18:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-02

    专利权的转移 IPC(主分类):H01S 5/20 登记生效日:20190314 变更前: 变更后: 申请日:20161230

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-10-19

    授权

    授权

  • 2018-10-19

    授权

    授权

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/20 申请日:20161230

    实质审查的生效

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/20 申请日:20161230

    实质审查的生效

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/20 申请日:20161230

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    公开

    公开

  • 2017-03-22

    公开

    公开

  • 2017-03-22

    公开

    公开

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