公开/公告号CN106141176B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-31
原文格式PDF
申请/专利权人 北京隆源自动成型系统有限公司;
申请/专利号CN201510146301.X
申请日2015-03-30
分类号
代理机构深圳新创友知识产权代理有限公司;
代理人江耀纯
地址 100081 北京市海淀区中关村南大街52号3号楼9层920B
入库时间 2022-08-23 10:15:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-31
授权
授权
2016-12-21
实质审查的生效 IPC(主分类):B22F3/105 申请日:20150330
实质审查的生效
2016-11-23
公开
公开
机译: 利用包括满足可接受的缺陷SLM像素策略的SLM像素区域和SLM像素区域失效策略的SLM像素的投影系统
机译: 利用包括满足可接受的缺陷SLM像素策略的SLM像素区域和SLM区域失败策略的SLM像素的投影系统
机译: 确定可接受的缺陷型SLM像素策略和不满足SLM像素策略的区域的SLM像素的区域的SLM像素的方法