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激光结晶系统和控制准分子激光退火制程能量密度的方法

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摘要

本发明提供一种激光结晶系统和一种实时控制准分子激光退火程序能量密度的方法。该激光结晶系统包含有一准分子激光退火装置与一光学检测装置。该实时控制准分子激光退火程序的能量密度的方法，包含有利用进行一最佳能量密度决定程序，以决定出一最佳能量密度，以及利用该最佳能量密度的准分子激光来进行一准分子激光退火程序。

著录项

  • 公开/公告号CN1290154C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-12-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 友达光电股份有限公司;

    申请/专利号CN200410049329.3

  • 发明设计人 曹义昌;吴焕照;林文章;张志雄;

    申请日2004-06-11

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L21/20(20060101);H01L21/324(20060101);H01L21/66(20060101);B23K26/00(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人蒲迈文;黄小临

  • 地址 台湾省新竹市

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-12-13

    授权

    授权

  • 2005-02-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-12-08

    公开

    公开

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