静电吸附装置、等离子体处理装置及等离子体处理方法

摘要

本发明涉及静电吸附装置、等离子体处理装置及等离子体处理方法。可不引起异常放电或绝缘破坏地稳定吸附保持绝缘体的基板。其载置玻璃基板(G)的载置台(10)是在基底部件(12)之上设置了例如由铝构成的矩形块状基座(14)和包围此基座(14)的由绝缘体如石英构成的矩形框状聚焦环(16)，在基座(14)的主面上设置了由借助于各种喷镀法形成的下部电介质层(18)、电极层(20)及上部电介质层(22)的三层结构所构成的静电吸附部(24)。下部电介质层(18)以及上部电介质层(22)由体积固有电阻值在1×10¹⁴Ω·cm以上的氧化铝、氧化锆的陶瓷构成。直流电源(34)的输出端子电气连接到电极层(20)。