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具有偏移量测量标记的多层结构及其偏移量的测量方法

摘要

本公开提供具有偏移量测量标记的多层结构及其偏移量的测量方法,多层结构包括:第一堆叠层;第二堆叠层;形成于该第一堆叠层上的基准图案结构;及形成于该第二堆叠层上的对位图案结构,该第一堆叠层上的基准图案结构包括第一基准图案和第二基准图案,第二堆叠层上的对位图案结构包括第一对位图案和第二对位图案,当第一堆叠层与第二堆叠层堆叠时,第一对位标记的其中之一与第一方框的其中之一在X方向对齐,第二对位标记的其中之一与第二方框的其中之一在Y方向对齐,该对齐的第一方框所对应的第一横向偏移量为第一堆叠层与第二堆叠层在X方向的偏移量,该对齐的第二方框所对应的第一纵向偏移量为第一堆叠层与第二堆叠层在Y方向的偏移量。

著录项

  • 公开/公告号CN104979330B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海和辉光电有限公司;

    申请/专利号CN201410143349.0

  • 发明设计人 杨靖哲;黄昱嘉;吴韦良;

    申请日2014-04-10

  • 分类号H01L23/544(20060101);H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11438 北京律智知识产权代理有限公司;

  • 代理人姜怡;阚梓瑄

  • 地址 201500 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室

  • 入库时间 2022-08-23 10:14:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-21

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L23/544 变更前: 变更后: 申请日:20140410

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2018-07-13

    授权

    授权

  • 2015-11-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/544 申请日:20140410

    实质审查的生效

  • 2015-10-14

    公开

    公开

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