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基于纹理分布弱假设和正则化策略的自然图像抠图方法

摘要

本发明提供了一种基于纹理分布弱假设和正则化策略的自然图像抠图方法,本发明针对贝叶斯抠图算法的不足作出了改进,首先针对原方法假设过强,本发明减弱了该假设,基于直方图和巴氏距离,定义和设计了对高斯分布方差进行修正的计算测度和修正系数,从而提出一种考虑纹理复杂程度的自适应方差高斯分布模型,有效应对自然图像的复杂纹理分布;其次,针对原方法的计算模型,本发明在给出一个理想的纠偏性颜色估计优化模型及其求解问题的基础上,提出了一种基于正则化策略的抠图算法模型,即通过增广拉格朗日乘子法,在基本模型中增加了数据约束项与惩罚项,获得理想优化模型的一个正则化形式的求解模型。

著录项

  • 公开/公告号CN105225245B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201510736699.2

  • 发明设计人 何发智;陈晓;潘一腾;张德军;

    申请日2015-11-03

  • 分类号

  • 代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张火春

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2022-08-23 10:13:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-29

    授权

    授权

  • 2016-02-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/00 申请日:20151103

    实质审查的生效

  • 2016-01-06

    公开

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