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庆大霉素、链霉素、新霉素分子印迹整体分离柱及其制备方法

摘要

本发明公开了应用于测定动物源食品中庆大霉素、链霉素、新霉素残留量的高选择性分离的分子印迹整体柱及其制备方法。以庆大霉素、链霉素、新霉素作分子模板,在空柱中进行原位结合,制备庆大霉素、链霉素、新霉素分子印迹整体柱,柱中填料是一种有固定孔穴大小和形状及有确定排列功能基团的交联聚合物,它对庆大霉素、链霉素、新霉素模板分子的立体结构具有“记忆”功能。用于此分子印迹整体柱可对残留分析样品溶液中庆大霉素、链霉素、新霉素进行高选择性分离。本印迹整体柱较普通反相C18分离柱有更强的保留,不需离子对试剂参与分离,流动相可与质谱很好的兼容。

著录项

  • 公开/公告号CN1292250C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南纽尔科技有限公司;

    申请/专利号CN200510031112.4

  • 发明设计人 陈波;马金余;刘程;

    申请日2005-01-06

  • 分类号

  • 代理机构长沙星耀专利事务所;

  • 代理人赵静华

  • 地址 410007 湖南省长沙市劳动西路121号长沙汽贸大厦

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-03-04

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-12-27

    授权

    授权

  • 2005-11-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-09-14

    公开

    公开

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