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集成分析装置及相关制造方法和分析技术

摘要

本发明涉及集成分析装置及相关制造方法和分析技术。本发明提供了具有大尺度和纳米尺度尺寸的部件的集成分析装置,以及具有降低的背景信号并减少了置于装置内的荧光团淬灭的装置。还提供了制造这些装置和使用这些装置的相关方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-06

    授权

    授权

  • 2018-04-03

    著录事项变更 IPC(主分类):G01N21/64 变更前: 变更后: 申请日:20090605

    著录事项变更

  • 2015-03-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20090605

    实质审查的生效

  • 2015-02-18

    公开

    公开

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