法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-19
授权
授权
2016-10-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G01M11/02 申请日:20160419
实质审查的生效
2016-09-07
公开
公开
机译: 用于投影曝光装置的照明光学单元的镜像,其包括光栅结构形式的光谱滤光器和用于在镜子上以光栅结构的形式产生光谱滤光器的方法
机译: 用于投影曝光装置的照明光学单元的镜像,其包括光栅结构形式的光谱滤光器和用于在镜子上以光栅结构的形式产生光谱滤光器的方法
机译: 模式检查装置,模式位置测量装置,航空图像测量系统,航空图像的测量方法,模式位置修复装置,模式位置修复方法,航空图像数据处理装置,处理方法,处理方法曝光图案,制造面具的方法以及面具制造系统