摘要
第一章 绪论
1.1 研究背景与意义
1.2 发射率测量技术研究现状
1.2.1 量热法
1.2.2 反射法
1.2.3 能量对比法
1.2.4 多波长法
1.3 发射率测量存在问题分析
1.4 研究内容
第二章 能量对比法发射率测量技术基础理论
2.1 热辐射基本理论
2.1.1 黑体辐射基本定律
2.1.2 发射率的各种形式及其定义
2.2 能量对比法发射率测量技术原理
2.3 本章小结
第三章 基于光栅单色仪光谱发射率测量装置
3.1 装置基本测量原理
3.2 测量装置整体介绍
3.2.1 平板加热炉及温控装置
3.2.2 黑体炉
3.2.3 光栅单色仪
3.2.4 锁相放大器及斩波器
3.2.5 离轴抛物面反射镜及电动旋转台
3.3 光谱发射率测量装置性能测试
3.3.1 纯钛TA2光谱发射率测试
3.3.2 测量不确定度评定
3.4 本章小结
第四章 纯铝及铝合金光谱发射率研究
4.1 引言
4.2 纯铝光谱发射率研究
4.2.1 样品制备
4.2.2 氩气保护下纯铝的光谱发射率
4.2.3 纯铝在不同温度下氧化4h后的光谱发射率
4.2.4 纯铝在873K不同氧化时间的光谱发射率
4.3 铝合金A15052波长1.55μm处光谱发射率研究
4.3.1 样品制备
4.3.2 Al5052光谱发射率与温度之间的关系
4.3.3 Al5052光谱发射率与加热时间之间的关系
4.4 本章小结
第五章 铜光谱发射率研究
5.1 引言
5.2 铜波长1.55μm处光谱发射率研究
5.2.1 样品处理
5.2.2 温度对铜光谱发射率的影响
5.2.3 氧化膜厚度对光谱发射率的影响
5.2.4 加热时间对光谱发射率的影响
5.3 本章小结
第六章 总结与展望
6.1 主要研究内容及结果
6.2 展望
参考文献
致谢
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