公开/公告号CN1273869C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-09-06
原文格式PDF
申请/专利权人 捷时雅株式会社;
申请/专利号CN01802620.6
申请日2001-08-24
分类号G03F7/039(20060101);G03F7/26(20060101);G02B3/00(20060101);G02B5/18(20060101);G02B6/12(20060101);G03H1/02(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人魏金玺;杨丽琴
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 08:59:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-03-19
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20010824
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2006-09-06
授权
授权
2003-03-26
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-01-01
公开
公开
机译: 磺酰肟化合物,放射线敏感性酸产生剂,使用其的正型放射线敏感性树脂组合物和负型放射线敏感性树脂组合物
机译: 磺酰肟化合物,放射线敏感性酸产生剂,使用其的正型放射线敏感性树脂组合物和负型放射线敏感性树脂组合物
机译: 具有光化放射线或放射线敏感性树脂组合物的掩模坯料,光化放射线或放射线敏感性膜,光光化放射线或放射线敏感性膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法设备