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一种双位无结闪存存储器及其编程、擦除和读取方法

摘要

本发明公开了一种双位无结闪存存储器,是一个利用无结晶体管结构的SONOS闪存,其衬底中具有均匀重掺杂N型杂质的源端、漏端和沟道区域而不使用PN结,其氮化硅层包括两个存储位,用于存储电荷,其重掺杂区域具有使SONOS闪存在关断时能完全耗尽该区域电子的厚度;其编程利用带带隧穿热空穴注入方式进行,擦除利用沟道FN隧穿擦除机制进行,读取采用反向读取方式进行,可解决传统浮栅多位存储技术存在的电路结构复杂,读取、写入、擦除速度较慢,对可靠性要求较高的缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN105118831B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201510422547.5

  • 发明设计人 顾经纶;

    申请日2015-07-17

  • 分类号

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:13:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-29

    授权

    授权

  • 2015-12-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20150717

    实质审查的生效

  • 2015-12-02

    公开

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